平板显示器紫外线灯13.5KW电源

实验室用小型UV紫外线照射设备

设备型号：HUV100;HUV300

用途：光阻材料固化，粘着剂固化，封装胶固化，油墨胶固化，框胶材料固化。

照射装置构成：由灯箱和电源构成，特长：操作简单，小型化，轻量化，可手持，节能

製品仕様：

使用UV汞灯作为光源，光源主要波长为365nm，照度为30mW/cm2.

照射面积：100×100mm/200×200ｍｍ/300×300ｍｍ

照度計使用敝司生产照度計UV-SN35，測量主波長365nm単位是mW/㎠

照射面积：300mm×300mm

照射距離可选择：100mm,200mm,300mm

照射物距离光源越远，测得照度值逐渐变低。 i线步进式光刻机NSR-SF100,用于半导体器件制造。使用ORC高压汞灯，功率3.5KW，型号：NLi-3500AS。平板显示器紫外线灯13.5KW电源

a.接触式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单。接触式，根据施加力量的方式不同又分为：软接触，硬接触和真空接触。1.软接触 就是把基片通过托盘吸附住（类似于匀胶机的基片放置方式），掩膜盖在基片上面；2.硬接触 是将基片通过一个气压（氮气），往上顶，使之与掩膜接触；3.真空接触 是在掩膜和基片中间抽气，使之更加好的贴合（想一想把被子抽真空放置的方式）软Sensor紫外线灯UV-SN25i线步进式光刻机NSR-SF120,用于半导体器件制造。使用ORC高压汞灯，功率5KW，型号：NLi-5001AL。

超高圧水銀Lampは均一・平行光源として豊富な実績のあるマルチライトシリーズの基本構成はそのままに波長230nm～450nmのDeepUV領域に適化した光源ユニットです。リソグラフィー用途はもちろん、表面改質光源、各種光化学反応評価光源としても応用頂けます。光源:250W 超高圧UVランプ,露光エリア:φ135mm,波長領域:230nm～450nm,初期照度:16mW/cm2以上,照度均一度:±5%以内,本体外形寸法(mm):224(W)×521(D)×417(H),電源外形寸法（mm):180(W)×300(D)×360(H).

i线步进式光刻机NSR-SF150适用于半导体器件的制造。性能：Resolution分辨率≦280nm，Exposure light source曝光光源i-line(365nmwavelength)，Reductionratio缩小倍率1:4Maximumexposurefield，曝光范围26mm×33mm，Throughput产出≧200wafers/hour(300mmwafer,76shots),也可用于200mmwafer。采用悬吊投影镜头、减轻震动的“天钩构造”。通过高速运转的晶圆工作台，实现了每小时200片以上300mm晶圆的高产出。●超高产出采用了适于步进式光刻机的新平台“天钩构造”，同时晶圆工作台可高速运转，从而大幅度降低了振动，并实现了高产出。达到了每小时200片以上300mm晶圆的超高产出。高重合精度采用了“天钩构造”与配重物。并重新配置了空调管路，有利于工作室内的散热。使用ORC制作所生产的7.5KW超高压汞灯，对应型号：NLi-7500AL2。i线步进式光刻机NSR2205i14,用于半导体器件制造。使用ORC制作所高压汞灯，功率2.5KW，型号：NLi-2510AHL2。

i线步进式光刻机NSR-SF155适用于半导体器件的制造。性能：Resolution分辨率≦280nm，NA0.62，Exposure light source曝光光源i-line(365nmwavelength)，Reductionratio缩小倍率1:4Maximumexposurefield，曝光范围26mm×33mm，Overlay重合精度≦25nm，Throughput产出≧200wafers/hour(300mmwafer,76shots),也可用于200mmwafer。采用悬吊投影镜头、减轻震动的“天钩构造”。通过高速运转的晶圆工作台，实现了每小时200片以上300mm晶圆的高产出。●超高产出采用了适于步进式光刻机的新平台“天钩构造”，同时晶圆工作台可高速运转，从而大幅度降低了振动，并实现了高产出。达到了每小时200片以上300mm晶圆的超高产出。高重合精度采用了“天钩构造”与配重物。并重新配置了空调管路，有利于工作室内的散热。实现了25nm以下的重合精度。使用ORC制作所生产的7.5KW超高压汞灯，对应型号：NLi-7500AL2。以紫外线之力，突破半导体工业的极限。紫外线灯1KW

i线步进式光刻机NSR-2005i10用于半导体器件制造。使用ORC制作所高压汞灯，功率2KW，型号：NLi-2001A-1。平板显示器紫外线灯13.5KW电源

高压汞灯在工作时，灯球体内的汞蒸气压达100个保准大气压以上。汞蒸气压愈高，灯的亮度也越高，紫外线强度也越大，而且汞原子谱线宽度变大，分子连续谱与带电粒子复合光谱也更强，特别是595nm以上的红光辐射随灯内工作压强的升高而增强，从而使灯的显色性提高。为了克服由于电极处于极高温度造成钨材料蒸发并沉积在球壁上造成紫外线穿透率下降，光衰加速，从工艺设计上对灯内充入微量卤素，达到有效清洁泡壳的作用，进而可延长汞灯使用寿命。平板显示器紫外线灯13.5KW电源